丹麥DME原子力顯微鏡DS95Navi介紹

發(fā)布日期：2022-04-28      瀏覽次數(shù)：2612

公司簡介：
DME - Danish Micro Engineering A/S 由 Curt Sander 博士于 1979 年創(chuàng)立，是一家專注于微處理器技術(shù)和軟件的工程顧問公司。那時，即將到來的新信息技術(shù)正在慢慢影響DME的日常生活。許多丹麥公司很早就認(rèn)識到了微處理器技術(shù)的可能性，DME 幫助丹麥公司從經(jīng)典（主要是模擬）電子技術(shù)過渡到微處理器技術(shù)，并成為該領(lǐng)域重要的顧問公司之一。丹麥微處理器技術(shù)的這一悠久傳統(tǒng)至今仍可見一斑。在 PC 的擴(kuò)展方面，丹麥在歐洲，在二。
在此背景下，1987 年底，DME 開始開發(fā)臺 SPM 顯微鏡，不久之后，該公司交付了臺 TunnelSCope® 系列儀器，該系列在 1990 年代初被 RasterSCope 取代， DualSCope™ 系列。此時，DME 從一家咨詢公司轉(zhuǎn)變?yōu)橐患抑饕獙Ｗ⒂趻呙杼结橈@微鏡的制造公司。RasterSCope 和 DualSCope 產(chǎn)品系列正在穩(wěn)步進(jìn)一步開發(fā)和補(bǔ)充，在過去 20 年中一直是 DME 的主要業(yè)務(wù)。因此，DME 是市場上的 AFM、STM 和 SNOM 設(shè)備制造商之一。忠實于DME的起源，DME 將軟件作為主要開發(fā)項目之一。
除了標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品，DME 還對開發(fā)各種新產(chǎn)品感興趣。尤其是在掃描探針技術(shù)方面，通過DME的經(jīng)驗和專業(yè)知識，DME 可以顯示出非常短的新產(chǎn)品開發(fā)時間 - 與其他制造商標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品的交付時間相當(dāng)?shù)拈_發(fā)時間。
2015 年 7 月，DME 被 Semilab Zrt 公司收購，還是和以前一樣繼續(xù)生產(chǎn) SPM。

產(chǎn)品簡介：
DME原子力顯微鏡即使從AFM移去樣品，DME原子力顯微鏡Navigator 220TM仍能確保再次觀察到同一個地方?；趨⒖冀Y(jié)構(gòu)，系統(tǒng)能找到精度在250 nm之內(nèi)的感興趣區(qū)域。DME原子力顯微鏡整個定位過程是全自動和高穩(wěn)定性，從而*了長期和短期測試分析一個示例的多個結(jié)構(gòu)特點。DME原子力顯微鏡其主要應(yīng)用領(lǐng)域是光刻技術(shù)中質(zhì)量控制，納米壓痕和多元工藝分析，例如材料表面工程，納米管，納米顆粒，點和薄層/膜的生長等等。
樣品臺移動范圍：180nm*180nm
樣品尺寸：直徑<15mm，厚度<5mm
定位檢測噪聲：X-Y＜0.15nm RMS ,Z=35pm

技術(shù)參數(shù)：
掃描體積：50×50×5mm（DS95-50）或200×200×15mm（DS95-200）

- XYZ方向探針移動量：于樣本大??！ （AFM重要的通用準(zhǔn)則）
- 的機(jī)械穩(wěn)定性（在Z方向的原子步進(jìn)分辨率0.06 nm的有效值在HOPG）
- 的掃描速率30Hz
- 在Z方向的硬件線性掃描運動
- 在Z方向的噪音水平<0.05 nm的有效值
- 自我調(diào)節(jié)激光/懸臂偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)
- 在AC模式幅度設(shè)置<1納米
- 對懸臂式綜合光軸
- 即插即用懸臂式，速度，目前市場上的懸臂交流！ （*）
- 由壓電馬達(dá)高度敏感的方法步驟（*）
- SPM模式：交流，包括振幅成像和相位成像特區(qū)，包括LFM, MFM, KPFM, EFM, SCM, STM

產(chǎn)品型號：
DME原子力顯微鏡Igloo
DME原子力顯微鏡Compact Granite
DME原子力顯微鏡Proberstation 150
DME原子力顯微鏡Navigator 220

DME原子力顯微鏡的產(chǎn)品特點：
1、DME原子力顯微鏡DS95 SPM掃描儀的緊湊設(shè)計，了其出色的穩(wěn)定性和掃描速率。
2、*的即插即用懸臂切換功能確保儀器可以快捷和的操作。
3、一個集成的光軸為SPM掃描儀在尋找和定位目標(biāo)過程中提供總體視覺控制。
4、DME原子力顯微鏡S95 SPM掃描儀作為基本設(shè)備提供給所有常用和*的SPM型號。
5、集成電子元件的掃描頭了在電性SPM模式下的噪音值。
6、DS95多元底座允許DS95 SPM掃描儀，納米壓痕儀和光學(xué)顯微鏡等安裝在DME底座平臺上。

產(chǎn)品應(yīng)用：
DME原子力顯微鏡其主要應(yīng)用領(lǐng)域是光刻技術(shù)中質(zhì)量控制，納米壓痕和多元工藝分析，例如材料表面工程，納米管，納米顆粒，點和薄層/膜的生長等。

 

產(chǎn)品系列：

DME顯微鏡

DME掃描儀

DME測量控制器

DME微電子